硅溶膠拋光液廣泛應(yīng)用于各種材料的納米級拋光。如:不銹鋼、鋁合金、復合晶體、精密光學器件等的表面精密拋光。
在拋光過程中，影響拋光過程的主要因素如下:
?、贉囟?隨著溫度的升高，拋光液的化學反應(yīng)能力增強，拋光速率加快。但是，過高的溫度會導致拋光液揮發(fā)，加速化學反應(yīng)，導致嚴重的表面腐蝕，導致拋光效果不均勻，拋光質(zhì)量下降。
②酸堿度:拋光液的酸堿度越高，堿度越強，反應(yīng)速度越快。然而，酸堿度對拋光表面的蝕刻、研磨劑的分解和溶解性、拋光液的穩(wěn)定性等有很大的影響。，從而影響材料的去除率和表面質(zhì)量，因此應(yīng)嚴格控制。
?、蹓毫?一般來說，壓力越高，拋光速度越快。然而，如果壓力太高，拋光速率會稍微下降。原因是過高的壓力會降低拋光墊承載拋光液的能力。另外，過大的壓力容易造成碎片現(xiàn)象。
?、苻D(zhuǎn)速:提高轉(zhuǎn)速會提高拋光率。但是，過高的轉(zhuǎn)速會導致拋光液在拋光墊上分布不均勻，從而影響拋光質(zhì)量。
?、輶伖庖簼舛?當拋光液濃度增加時，去除率增加，但當磨粒濃度超過一定值時，材料去除率將停止增加并保持恒定值。這種現(xiàn)象被稱為去除飽和。此外，如果濃度過高，表面缺陷(如劃痕)可能會增加，從而影響表面質(zhì)量。